:NACHÁZELOVÁ, Eliška. Šance a rizika fenoménu brain drain. In Logos Polytechnikos. - Jihlava : Vysoká škola polytechnická, 2021. ISSN 2464-7551, 2021, roč. 12, č. 3, s. 4-15. %copiesx : #b_content#25%#15%#25%#5%Názov súboruVeľkosťTyp prístupu Plný text PDF820.8 KBz IP adresy SEK po prihlásení